工业和信息化部主管 中国电子报社主办
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设计

EDA工具商需提供全套方案

过去5年来,中国IC设计业迅速发展,加速跟进国际IC设计业步伐。我们注意到,业界早期重点关注低功耗设计解决方法,目前扩展到模拟和数字混合信号设计集成方法,同时进一步关注20nm以及小于20nm先进节点的高性能IC设计与FinFET、3D
IC相关的先进技术。Cadence也持续关注中国电子产品市场的发展,致力于完善EDA工具,为业界提供从系统设计验证、芯片实现到三维封装以及PCB板级的一整套方案。今年6月,Cadence与TSMC合作生产出第一颗3D
IC实验芯片。10月份Cadence与IBM合作,基于IBM 14nm并使用IBM的FinFET工艺技术设计实现了第一颗ARM
Cortex-M0处理器。


同时,Cadence也在持续不断地巩固、开发和扩展并提供涵盖数字、模拟、混合信号的完整的设计方案,包括从电路快速仿真、加速仿真、全芯片中的数模模块建模方法等。而随着先进工艺20nm时代的到来,Cadence在以ADE为主的条件下,将继续推广“模拟设计约束”的新方法以减小设计失误;继续加强PDK的功能以提高设计效率;继续提供DFM的制造和设计工具以增加产品额度。目前,Cadence以QRC、PVS和DFM为主的若干工具已经经过产品验证并成为代工厂20nm设计的首选。


此外,随着越来越多SoC芯片设计的需要,更多IP模块的集成,设计者需要解决3个重要问题:一是系统化的仿真和验证方案,二是软硬件协同加速仿真和验证方案,三是这种先进的仿真和验证方案能使得设计在早期发现问题、解决问题,保障设计尽快收敛,并进入物理设计阶段。Cadence在成熟软硬件同步仿真和验证系统工具的基础上,近年来已经开发出系统开发套件(SDS),提供用于早期系统软件开发的虚拟系统开发平台(VSP)、SoC设计硬件验证平台(IVP)、软硬件系统验证平台(VCP)和软硬件系统确认平台(RPP)的完整套件。


尽管中国IC设计业发展较快,但有不少产品重复,欠缺原创性,从而导致更多地购买IP来进行集成。由于历史发展的原因,国内企业的大多工程师是“跳跃式”地进入了先进设计的行业和复杂的技术队伍中,在短期工程实践过程中,缺失了很多基础练习和精炼提高的机会。好在近年来更多先进工艺的发展和设计的引进,给予了工程师提高的机会和检验的平台。工程师要在与工艺相关的基础半导体和物理知识方面加强学习实践,开发20nm工艺以下的设计库和设计方法,解决GHz的时序和时钟设计问题,在从系统到芯片的设计全过程降低功耗和面积。企业需要规划要求,工程师需要专业提高,从而在设计细节和提升性能方面做得更好。


 



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