半导体

高端LED工艺设备促产业进步

作者:电子信息产业网来源:电子信息产业网发布时间:2013-07-05 11:46我要评论

北方微电子公司副总裁兼PVD装备事业部总经理 丁培军

丁培军:各位嘉宾早上好!今天我代替我们赵总做这个报告。这个报告题目不再重复了。这个是今天整个的目录,首先我给各位介绍一下我们北方微电子公司的概况,然后我们就是主要说一下LED工艺解决方案,然后我们的产品开发和服务的策略。

从我们的公司发展的策略就是说在过去10年中我们北方微电子就是建立了自己独特的技术模块,包括所有的工程材料、射频、软件开发还有模拟所有的技术模块在过去十年中我们都完善了。从管理来说我们完善了自己管理的系统,这样为我们北京微电子腾飞打下了坚实的基础。这个基础上我们有三款主要的应用,一个是ETCH、PVD、CVD,主要应用于集成、封装等各种领域,这些产品得到客户认可,在产线上得到大规模的生产。

这个是我们现在公司整个的产品架构,在集成电路我们有200、300恩的PVD,ETCH,这个系统在IT厂商做生产,我们这个设备做28纳米的试生产。另外在先进封装我们有TXV的刻时,在新的NMC领域我们有IGBTPVD,有MEMSPVD,有MEMSETCH。我们有四种应用在LED,另外我们有一个推出来的PECBD。我们研发出很多产品,从国家和业界给我们公司有很多荣誉。包括我们2009年得了国家的科学技术二等奖。

下面我们简单介绍一下我们LED高端的工艺设备的一些解决方案。首先我说一下刻蚀方案,GAN基外延刻蚀,PSS刻蚀,静电刻蚀。一个是330,一个是330S两种系列产品的刻蚀。这两种产品各位都非常了解,我们有自动,手动,有机械卡盘和静电卡盘,这两款系列产品被客户认可度非常高,我们市场占有率在50%%以上,我们静电卡盘推出对工艺稳定性和工艺效果有大大的提升。

这个是PSS刻蚀工艺解决方案,我们PSS刻蚀因为我们整个工作原理是有用IC的刻蚀原理,从工艺稳定性和工艺可控性非常好。上面这个图是现在大家普遍用的一个直面三角形的刻蚀形状,我们刻蚀的可控性控制非常好,下面是纳米压熨刻出三角形的形貌。另外我们的射频是由两组线圈控制的,一个外线圈一个内线圈这样对于均匀性控制非常好。我们的时间比我们竞争对手短,我们直边三角形小雨35分钟可以刻完盘刻蚀。

从Gan基外延层刻蚀来说我们引进了卡盘,这样工艺的优势非常明显,我们片间,颗粒控制度和PM有很大提升,我们的产能和性价比都非常优越。

第一点讲深槽刻蚀,这个也是因为我们用了静电卡盘,使得工艺的均匀性有了明显的提升。另外我们刻蚀速率和选择比都非常好。另外角度的控制和表面粗糙度的控制都非常好。

另外从红光来说我们刻蚀机刻磷化钾也刻的非常好。一个是90度一个是45度,这个角度控制非常好,我们刻蚀机对不同材料可以一步到位,我们还有终点检测,这样给我们客户提高了生产和控制的能力。

下面我简单给各位介绍一下我们Sputter的产品。一个是ITOSputter,一个是DBR/ODRSputter。Sputter一个产品主要是基于两个系列的产品,一个是ITO构架,这个构架我们有沉积仓,另外一个是Flexer,可以装四个PVD的把位,做不同的材料沉积,这样给客户更多的便利和灵活性。

从SputterITO代替ITO是很好的效率,这个当时我们跟客户做的,利用我们SputterITO做,这个出光效率到近10%%,我们ITO的系统占地面积非常小,另外就是说我们采用RF+DC这个技术,保证没有任何损伤。载盘是平着进去平着出来,对操作工来说非常容易操作简便。

另外一款产品就是我们DBR/ODR的产品,这个四个腔室可以同时做,这样给客户提供很大产能和灵活性。同时这个机台可以把其中一个肽硅改称金属变成ODR的设备。我们的设备占地面积很小,我们体积和高度比这个ODR都小很多。我们是多腔室的架构,都是基于IC的概念来的,这些都是好于现在的设备。另外在LED客户有很多需求要用不同的金属,不同金属月溅射的方式,镀膜远远好于蒸镀的,肽、钨、银、铝这些我们都提供了很多好的方案。

另外一点将来LED往下走的过程当中,LED的封装是一个非常关键的一部分,现在有一些客户在跟我们一起合作就是说利用TSV这个技术孔隙用到LED的封装。一个就是说LED直接通过孔隙封装到硅基上。另外在硅基上不但有LED,我们先进封装里面已经做了相同的设备,这两款一个是5比1我们做的先进封装的,一个是12比1的Sputter。我们都能非常好的填进去,这种技术要求关键技术非常高,12比1,现在只有我们和应用材料可以达到这种技术,我们这种技术非常容易用到LED封装的领域里面。因此我们机台兼容从两寸到12寸的芯片都可以。

另外一个我们做的就是氮化铝,可以减少现在蓝宝石或者是硅基跟氮化钾之间的GTE,这个可以缩小到两到三小时,对整个机台的利用率有大大的提高。同时对通光效率,对ESD的这些性能也有很多的提高。现在对氮化铝的机台的要求现在也非常迫切。现在我们这个机台已经开始做封装了,我们这种片子的沉积温度达到800度,我们沉积的过程中整个的把材一直在非常洁净的情况下做的,沉积氮化钾前面有一个沙滩,沙滩一直保存那个片子,保存片子沉积下来的氮化铝非常洁净。我们选的材料保持整个腔室真空镀非常好,这样对于氮化钾和氮化铝的生长非常有利。

下面介绍一下我们PECVD,我们这个PECVD设计理念有很大不同,我们从0.2到23Torr之间,我们有双屏辅助沉积,这样也给客户带来很多的便利条件,或者调控的力度,另外就是说我们沉积温度会达到最高到400度,这样对成膜质量有很大帮助。我们有高功率的清晰,这样保证PM整个腔室PM非常长,这一款PECVD,会给客户提供非常好的性价比。

从服务的策略来说,我们北方微电子秉承设备在哪里使用,服务就在哪里提供,这是我们的承诺。我们现在就是说有七个服务中心,这七个服务中心就遍布全国各地。然后就是说我们从不止是服务客户,而且我们和客户共同开发一些比较靠前端的产品和技术。另外就是说从软件上来说,我们给客户机台软件升级是持续进行的,而且我们有完善的技术培训体系。另外客服也都保证了四小时响应,24小时客服工程师到现场。总得来说我们设备在哪里我们服务就在哪里。谢谢各位的宝贵时间!


责任编辑:赵强
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